5月27日，据产业媒体报道，由于日本信越化学KrF光刻胶产能不足等原因，导致中国大陆多家晶圆厂KrF光刻胶供应紧张，部分中小晶圆厂KrF光刻胶甚至出现了断供！
据悉，信越化学之所以停止供货部分晶圆厂KrF光刻胶，与数月前日本福岛东部海域发生7.3级地震有莫大关联。半导体光刻胶是光刻过程的关键耗材，光刻胶的质量和性能对光刻工艺有着重要影响，因其技术壁垒高而长期被海外大厂所主导，是半导体国产化的一道大坎。
根据SEMI数据，日本几大厂商在g线/i线、KrF、ArF胶市场中市占率分别为61%、80%、93%，而国内g线/i线自给率约为20%，KrF光刻胶的自给率不足5%，12寸硅片的ArF光刻胶目前尚无国内企业可以大规模生产。根据智研咨询预测，2022年中国大陆半导体光刻胶市场空间将会接近55亿元，是2019年的两倍。
以日本半导体光刻胶发展史为鉴，中国国产半导体光刻胶迎来发展良机。上市公司中，晶瑞股份KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品分辨率达到了0.25-0.13μm的技术要求，i线光刻胶近年已向中芯国际等企业供货。上海新阳开发的365nm I线、248nm KrF、193nm ArF干法及湿法光刻胶可适应国内0.35-0.11微米、90-28纳米芯片工艺技术节点的需求。南大光电自主研发的ArF光刻胶产品成功通过下游客户的使用认证，成为通过产品验证的第一只国产ArF光刻胶，已完成的产线设计产能为25吨。
